心虚设计师

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编刷历

以下数据仅供参考，在关卡中部分数值与技能天赋可能改变，此处不会列出，请以各关卡备注为准。
早期关卡暂无人手填充，如有意向补充，欢迎前往明日方舟WIKI提问箱或联系管理员。

编号 WW07

心虚设计师

攻击方式

不攻击

伤害类型

无

重量

4

生命值

B+

移动速度

C

攻击力

C

攻击速度

A+

防御力

C

元素抗性

E

法术抗性

B+

损伤抵抗

E

介绍

不能按时交稿的设计师。很是心虚，他发现自己不小心误入了镜头，立刻仓皇地逃走。

能力

• 减少来自正面的物理/法术伤害

• 不敢面对镜头。在摄影区域内时，如果面对摄影机则会转身

• 对阻挡自己的单位持续造成神经损伤神经损伤累计至1000时，受到1000点真实伤害并晕眩10秒

该敌方出场信息

共出场3次。以下为出场关卡：
AD-3, AD-6, AD-8

描述

不敢面对镜头；受到来自正面的物理和法术伤害降低；对阻挡自己的单位造成神经损伤

天赋

在摄影区域内时，如果面对摄影机则会转身背对摄影机。

受到来自正面的物理/法术伤害降低至80%。

对阻挡自身的单位每秒造成15%自身攻击力的。

具体数值

最大生命值

10000

攻击力

400

防御力

450

法术抗性

30

移动速度

0.5

攻击间隔

1.0

攻击速度

100.0

元素抗性

0.0

损伤抵抗

0.0

重量等级

4

生命值扣除数

1

攻击范围半径

-1

抗性列表

沉默抗性

有

晕眩抗性

无

冻结抗性

无

浮空抗性

无

沉睡抗性

无

战栗抗性

无

恐惧抗性

无

麻痹抗性

无

诱导抗性

无