祖巴伊达姆，从往昔来

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编刷历

以下数据仅供参考，在关卡中部分数值与技能天赋可能改变，此处不会列出，请以各关卡备注为准。
早期关卡暂无人手填充，如有意向补充，欢迎前往明日方舟WIKI提问箱或联系管理员。

无

编号 ZYA

祖巴伊达姆，从往昔来

攻击方式

远程

伤害类型

法术

重量

10

2

生命值

A+

移动速度

C

攻击力

B+

攻击速度

C

防御力

C

元素抗性

E

法术抗性

B

损伤抵抗

E

介绍

他代表过去站在这里，而他的背后就是未来的可能性。

能力

• 【晶体共振】位于结晶上时，受到的物理及法术伤害大幅降低

第一形态

• 【晶格聚焦】周期性锁定场上至多三名友方单位，对其造成十字法术溅射伤害，并在周围四格的地块上生成结晶
• 【晶体过载】周期性以自身为中心向四方向发射贯穿光线，对路径上所有友方单位造成法术伤害，并在沿途的地块上生成结晶

第二形态

• 【全面防御】一段时间内持续施法，吸收场上至多15颗结晶的力量，施法完成时根据吸收结晶的数量，获得相当于自身最大生命值一定比例的物理法术屏障
• 【坏点聚焦】一段时间内持续施法，吸收场上至多15颗结晶的力量，施法完成时根据吸收结晶的数量，锁定场上至多三名友方单位，对其造成十字法术溅射伤害

抗性

免疫晕眩

免疫冻结

免疫浮空

免疫沉睡

该敌方出场信息

共出场3次。以下为出场关卡：
AS-9, AS-EX-8, AS-S-4

描述

他代表过去站在这里，而他的背后就是未来的可能性。

天赋

所处地块存在结晶时，自身受到的物理/法术伤害降低70%。

第一形态
被击倒时进行20s重生，恢复100%生命值随后进入第二形态，同时在自身半径范围内2.0且尚无结晶的地块上召唤结晶
第二形态

进入该形态后获得10s
该形态下自身最大生命值+25%，攻击力+25%，防御力+25%。

具体数值

最大生命值

80000

攻击力

700

防御力

200

法术抗性

20

移动速度

0.6

攻击间隔

4.0

攻击速度

100.0

元素抗性

0.0

损伤抵抗

0.0

生命恢复速度

0.0

重量等级

10

生命值扣除数

2

攻击范围半径

2

抗性列表

沉默抗性

有

晕眩抗性

有

冻结抗性

有

浮空抗性

有

沉睡抗性

有

战栗抗性

无

恐惧抗性

无

技能

此处展示顺序为技能触发优先级，即同时满足技能触发条件的情况下，越靠前的技能越先触发。

技能名	初始CD	CD	效果
晶格聚焦（第一形态）	20.0	20.0	蓄力5s后，锁定场上最多3个目标，对目标以及相邻四格的我方单位造成50%自身攻击力的法术溅射伤害，并在该范围内尚无结晶的地块上生成结晶。
晶体过载（第一形态）	6.0	40.0	进行3s的施法，以自身为中心向上下左右四个方向各发射一道光线，光线对被击中的我方单位造成100%自身攻击力的法术伤害，同时在光线经过且尚无结晶的地块上生成结晶。
全面防御（第二形态）	5.0	70.0	若自身尚无屏障，则在5s蓄力后，为自身生成一个可吸收相当于【50%+10%×场上结晶数（上限15）】自身最大生命值的物理/法术伤害的屏障。
坏点聚焦（第二形态）	25.0	25.0	蓄力10s后，锁定场上最多3个目标，对目标以及相邻四格的我方单位造成【90%+4%×场上结晶数（上限15）】自身攻击力的法术溅射伤害。

描述

他代表过去站在这里，而他的背后就是未来的可能性。

天赋

所处地块存在结晶时，自身受到的物理/法术伤害降低70%。

第一形态
被击倒时进行20s重生，恢复100%生命值随后进入第二形态，同时在自身半径范围内2.0且尚无结晶的地块上召唤结晶
第二形态

进入该形态后获得10s
该形态下自身最大生命值+25%，攻击力+25%，防御力+25%。

具体数值

最大生命值

110000

攻击力

800

防御力

200

法术抗性

20

移动速度

0.6

攻击间隔

4.0

攻击速度

100.0

元素抗性

0.0

损伤抵抗

0.0

生命恢复速度

0.0

重量等级

10

生命值扣除数

2

攻击范围半径

2

抗性列表

沉默抗性

有

晕眩抗性

有

冻结抗性

有

浮空抗性

有

沉睡抗性

有

战栗抗性

无

恐惧抗性

无

技能

此处展示顺序为技能触发优先级，即同时满足技能触发条件的情况下，越靠前的技能越先触发。

技能名	初始CD	CD	效果
晶格聚焦（第一形态）	20.0	20.0	蓄力5s后，锁定场上最多3个目标，对目标以及相邻四格的我方单位造成80%自身攻击力的法术溅射伤害，并在该范围内尚无结晶的地块上生成结晶。
晶体过载（第一形态）	6.0	40.0	进行3s的施法，以自身为中心向上下左右四个方向各发射一道光线，光线对被击中的我方单位造成120%自身攻击力的法术伤害，同时在光线经过且尚无结晶的地块上生成结晶。
全面防御（第二形态）	5.0	70.0	若自身尚无屏障，则在5s蓄力后，为自身生成一个可吸收相当于【50%+10%×场上结晶数（上限15）】自身最大生命值的物理/法术伤害的屏障。
坏点聚焦（第二形态）	25.0	25.0	蓄力10s后，锁定场上最多3个目标，对目标以及相邻四格的我方单位造成【120%+6%×场上结晶数（上限15）】自身攻击力的法术溅射伤害。